年产 1000 吨三氟化氮项⽬（特⽓⾏业纯度 99,996%)

Tri Azote Tri fl uoride ），化学式 NF3 ，是⼀种强氧化剂。作为⼀种重要的⼯业特种⽓体，具有⼴泛的应⽤领域。
在微电⼦⼯业中，三氟化氮是⼀种优良的等离⼦蚀刻⽓体，在半导体芯⽚、平板显⽰器、光纤、光伏电池等制造领域，三氟化氮主要⽤作等离⼦蚀刻⽓体和反应腔清洗剂。它还可以⽤于⾼能化学激光器，通过与氢反应在瞬间放出⼤量热来实现其应⽤。三氟化氮还可⽤作⾼能燃料，并且在⽕箭发射中作为氧化剂和推进剂使⽤。

Azote tri fl uoride, imiti ya NF3, ni imbaraga ikomeye ya okiside. Nka gazi ikomeye yinganda zidasanzwe, ifite uburyo bwinshi bwo gusaba.
Mu nganda ziciriritse, azote tri fl uoride ni gaze nziza ya plasma; Muri chip ya semiconductor, fl kumurongo werekana, optique fi ber, selile yifotora nizindi nganda fi bakuru, azote tri fl uoride ikoreshwa cyane nka plasma itera gaze hamwe nogukora isuku ya cavity.
Irashobora kandi gukoreshwa mumashanyarazi yingufu nyinshi kugirango igere kubikorwa byayo ikora hydrogène kugirango isohore ubushyuhe bwinshi mukanya. Azote tri fl uoride nayo ikoreshwa nka lisansi ifite ingufu nyinshi kandi nka okiside na moteri mu kurasa roketi.